公開日： 2010年02月17日
授權公告日：
申請人/專利權人： 浙江理工大學
申請人地址： 浙江省杭州市下沙高教園區2號大街
發明設計人： 邵建中；劉今強；戚棟明；鄭今歡；徐春松
專利代理機構： 杭州求是專利事務所有限公司
代理人： 林懷禹
專利類型： 發明專利
分類號： D06P5/15；D06P5/06；D06P5/08
申請號/專利號： 200910153101
本發明公開了一種改性二氧化硫脲拔染劑及其制備方法，該拔染劑由二氧化硫脲和包覆該二氧化硫脲的高分子改性劑組成，拔染劑的粒徑為50～80微米，二氧化硫脲和高分子改性劑的重量比為3～20∶1。高分子改性劑可為粉狀的聚乙烯吡咯烷酮、或者為乙烯基吡咯烷酮與乙酸乙烯酯的共聚物。本發明拔染劑的制備方法是將二氧化硫脲與粉狀高分子改性劑按3～20∶1的重量比放入球磨機的研磨容器內干態研磨0.5～2小時后得到。本發明改性方法簡單、產品穩定性好，可改善二氧化硫脲拔染效果，克服了常規二氧化硫脲作為拔染印花拔染劑時所存在的溶解度低、在拔染漿中的分散均勻性較差、透網性較差、拔染作用不能充分發揮等缺陷。
來源：中國印花網
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